透明晶圆缺陷扫描Lumina AT2-EFEM

透明/半透明晶圆缺陷扫描Lumina AT2-EFEM

简介：

Lumina AT2-EFEM可以在3分钟内完成300毫米晶圆的扫描，对于基底上下表面的颗粒、凸起、凹陷、划痕、内含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底，如玻璃，化合物半导体如氮化镓、砷化镓、碳化硅等样品上有独特的优势。也可用于薄膜涂层的成像厚度变化的全表面扫描。

样品300 x 300 mm。

厂商简介

Lumina Instruments，总部位于美国加利福尼亚州圣何塞，公司创始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷检测创新了更快速准确的方法，因此创建了革命性的仪器品牌lumina.

技术创新

 将样片放入系统中，3~5分钟即可完成扫描。

收集的数据将被分析，图像和缺陷图将由LuminaSoft软件生成。
感兴趣的缺陷可在扫描电子显微镜（SEM）、椭偏仪、显微镜等上进行进一步分析。

将样品放入系统

直径为30微米的绿色激光以50毫米的直线运动，反射光和散射光由四个探测器捕获。

四通道检测

AT1有四个检测通道。它们同时运行以生成四个独立的图像。每个通道有助于检测和分类某些缺陷。

极化：薄膜缺陷、污渍
反射率：划痕、内应力*、玻璃内的条纹*
坡度：划痕、凹坑、凸起、表面形貌
暗场：纳米颗粒、包裹体

Lumina AT2-EFEM:采取的样品尺寸为300mm；光斑的大小在60μm也可以选择30或10μm；灵敏度在300nm最为理想；扫描时间在40/50/120s。

应用案例：

l  透明/非透明材质表面缺陷的检测。

l  MOCVD外延生长成膜缺陷管控

l  PR膜厚均一性评价

l  Clean制程清洗效果评价

l  Wafer在CMP后表面缺陷分析

l  多个应用领域，如ARVR、Glass、光掩模版蓝宝石、Si wafel等、

AT2

系统规格

扫描时间:2分钟内扫描300mm晶圆

扫描范围:       450x450mm

灵敏度:     薄膜缺陷<0.5

颗粒，硅上200nm PSL

颗粒，玻璃上300nm PSL

标刻:      金刚石标刻 200$ 

翘曲度:   范围可达800μm 

+/-5μm重复性

温度:      18-30摄氏度

电压:      120/230VAC

电流:      8A/4A

重量:      480Kg (1058磅)

尺寸:      1037 x 1037 x2005mm     (40.8 x 40.8x79英寸)