MiniLab系列柔性薄膜实验设备THERMOCERA
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产品介绍
MiniLab系列柔性薄膜实验设备
由于是模块内置型，因此可以根据所需的薄膜类型和工艺组装专用机器。
一种灵活的小型实验装置，可用于多种目的。
MiniLab研发实验设备系列结合了各种选项中最少的必要和的模块来满足您的需求。我可以。可以以即插即用的方式设计和组装大量组件选项和模块化控制单元，从而实现广泛的应用和在各种研发开发现场的使用。我们将根据您的目的和预算提出的系统配置。
特征
机身紧凑，节省空间的设计
极限真空：5x10-5 帕斯卡
灵活的系统，允许您按照所需的配置组合腔室、组件和控制器
操作简单：专用控制软件“IntelliDep”，直观的操作让任何人都可以操作。
配方控制（7英寸触摸屏，或Windows PC操作）：最多可注册50个胶片配方
ML-GB手套箱薄膜实验设备
MiniLab-GB手套箱薄膜实验设备
气相沉积、溅射和退火等操作可以在手套箱内无缝执行。
MiniLab-026和MiniLab-090的室与手套箱工作台相连，控制架存放在工作台下方。一种薄膜实验装置，设计用于与手套箱连接。是将溅射、真空蒸镀等成膜设备与手套箱安装区域融为一体的节省空间的装置。
在OLED（有机EL）、OPV（有机薄膜太阳能电池）、OTFT（有机薄膜太阳能电池）、石墨烯、TMD（过渡金属二硫化物）等2D材料的沉积过程中，与氧气和湿气隔离. 样品应在惰性气体气氛中处理。
MiniLab-026/00-GB通过将PVD处理室容纳在GB内，在紧凑且节省空间的环境中实现了有机薄膜实验的“无氧和水”环境。
特征
节省空间。沉积设备适合手套箱主体的尺寸。
成膜后的样品不暴露在大气中，可以在工作台受控气氛下进行处理。
PVD成膜、旋涂、热板烘烤等一系列操作可以在GB内无缝进行，无需暴露在外部空气中。
nanoCVD-WGP晶圆级石墨烯合成装置
晶圆级石墨烯合成器
晶圆尺寸兼容的热 CVD/等离子体 CVD 设备
基材尺寸：Φ3英寸或Φ4英寸
nanoCVD-WG“CVD法”（化学气相沉积）
CVD法是一种已经确立的多用途且稳定的技术，也是考虑未来大规模合成石墨烯和CNT时最现实的方法。我来了。开发商Moorfield Nanotechnology与英国国家研究院合作多次验证了这款沉积测试设备。在研究机构的合作下，利用拉曼光谱、SEM、AFM等，已经验证可以从分析数据创建高质量的石墨烯和CNT样品。
nanoCVD-WPG“等离子体增强 CVD”
反应速度快，杂质被抑制。它是一种高速、高通量等离子体辅助清洁高质量石墨烯的CVD合成方法。
特征
紧凑型设计：590（宽）x 590（深）x 1050（高）mm
Φ3英寸或Φ4英寸晶圆级石墨烯合成
13.56MHz射频150W等离子电源（标配）
基板加热阶段Max1100℃
冷壁法热CVD
全自动PLC自动顺序控制
用户友好的 7" 触摸屏人机界面
多种沉积配方注册/手动/自动操作
纳米炉热CVD设备
紧凑尺寸热壁热CVD
基材尺寸：Φ2.5英寸或Φ4英寸
纳米炉模型。
[热壁热CVD设备]最适合基础研究的小型高性能CVD设备
石墨烯、碳纳米管
氧化锌纳米线
SiO2等绝缘膜
此外，它还可作为热壁热 CVD 系统用于广泛的应用。
nanoCVD石墨烯/CNT合成装置THERMOCERA
薄膜实验装置紧凑型系列，nanoCVD石墨烯/CNT合成装置，nanoCVD-8G，nanoCVD-8N，石墨烯/碳纳米管合成仪，nanoPVD-S10A磁控溅射装置，nanoPVD-T15A有机膜/金属膜沉积装置，nanoETCH Model.ETCH5A软蚀刻设备，nanoEM高真空EM镀膜设备
产品介绍
nanoCVD石墨烯/CNT合成装置
每批只需30分钟，即可轻松合成高质量石墨烯和碳纳米管
CVD法（化学气相沉积）
CVD法是一种稳定的技术，已经被建立用于多种用途，并且是考虑未来大规模合成石墨烯和CNT时最现实的方法。我们就在这里。制造商 Moorfield 与英国国家研究院合作多次验证了该沉积测试设备。在研究机构的合作下，已经证实可以利用拉曼光谱、SEM、AFM等分析数据来创建高质量的石墨烯和碳纳米管样品。
冷壁CVD
采用冷壁式/高温样品加热台（热板），反应速度快，重现性好。设备紧凑，处理时间短，可操作性优良，可创建并保存30种合成配方。除了标准的系统配置外，我们还可以根据要求定制设备配置。纳米CVD系统虽然很小，但却是一个具有***可能性的实验装置，为基础研究和开发领域做出了贡献。
特征
石墨烯/碳纳米管（SWNT）沉积实验可以轻松进行，无需使用大型设备。
每批只需30分钟！
冷壁法高效高精度过程控制
快速升温：RT→1100℃/约3分钟
高性能机器，具有高精度温度流量控制和***再现性
操作简单！通过5英寸触摸屏进行操作和配方管理
最多可以创建和保存 30 个配方和 30 个步骤的合成程序。
标配专用软件，CSV 文件输出 PC 上的数据记录
USB线连接，PC端创建的菜谱可上传至设备
nanoPVD-S10A磁控溅射装置
高性能RF/DC磁控溅射设备
连续多层镀膜、双源同时镀膜、APC自动压力控制
极限压力：5 x10-5 帕斯卡
多达 3 个源 Φ2" 磁控管阴极
自动多层连续薄膜，可同时薄膜沉积
直观操作 多功能软件“Intellidep”
用于连接 Windows PC 的远程软件“IntelliLink”
高性能RF/DC磁控管型溅射设备。虽然它很小，但它是一种满足追求高性能而又不影响薄膜质量（例如一般金属薄膜、绝缘体和化合物）的用户的设备。支持多达 3 源阴极、多层连续薄膜和同步沉积（**** RF 和 DC 组合）。有许多选项，例如加热器、旋转/升降、磁性材料阴极以及使用电容压力计的高精度压力控制。
nanoPVD-T15A有机膜/金属膜沉积装置
紧凑、高性能、
高性能有机膜和金属膜沉积设备
Φ2英寸?Φ4英寸板
紧凑尺寸：804(W) x 560(D) x 600(H)mm
是一款高性能的“有机膜/金属膜气相沉积”设备。采用Moorfield***的有机沉积源“LTE1”和金属材料沉积源“TE1-Box屏蔽型”，具有优异的温度响应性、稳定性和再现性。适用于OLED、OPV、OTFT等有机薄膜沉积以及金属材料沉积。一种多功能设备，最多可配备2个金属气相沉积源和最多4个有机气相沉积源，还可以进行自动连续多层沉积和同时沉积。
