是否进口是 | 加工定制否 |
品牌Laurell | 型号 EDC-650Hz-8NPP |
工作电压220V | 重量20kg |
基片尺寸可定制 | 腔体材质聚丙烯 |
试剂管路最多5路 | 标准配置样品、腔体、背部清洗 |
转速精度1rpm |
是否进口是 | 加工定制否 |
品牌Laurell | 型号 EDC-650Hz-8NPP |
工作电压220V | 重量20kg |
基片尺寸可定制 | 腔体材质聚丙烯 |
试剂管路最多5路 | 标准配置样品、腔体、背部清洗 |
转速精度1rpm |
匀胶显影机(英文名:Developing)
产地:美国
一、产品概述:
650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。
二、匀胶显影机工作原理:
显影系统具有可编程阀,它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻、显影和清洗应用的要求重复进行,如冲洗(通常是去离子水或溶剂),然后干燥(通常是氮气)等***的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在完全干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。匀胶显影机还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。
三、匀胶显影机主要性能指标:
1、腔体尺寸:12.5英寸 (318 毫米);
2、Wafer&芯片:直径8英寸(200毫米)的晶圆片或者7x7英寸(175毫米)的方片;
3、非真空托盘:聚丙烯材质非真空托盘,可承载2、3英寸及200毫米的晶圆片-并带有背面清洗功能;
3、转动速度:0-12,000rpm,非真空托盘到3000rpm
5、马达旋涂转速:稳定性能误差 <±1%;
6、工艺时间设定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度;
7、高精度数码控制器:PLC控制,设置点精度小于0.006%;
8、程序控制:可存储20个程序段,每个程序段可以设置51步不同的速度状态;
9、分辨率:分辨率不小于1转/分,可重复性不小于1转/分,美国***技术研究院(NIST)认证过的,并且无需再校准!]
10、腔体开关盖板:透明ECTFE材质圆顶盖板,便于实时进行可视化操作;
11、腔体材质说明:用聚丙烯材质制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体;
12、配套分析软件:SPIN3000操作分析软件;
13、配套真空泵系统:无油型 220~240伏交流,50/60赫兹;
四、适用工艺(包括但不限于下述湿法制程)
光刻胶显影(KrF/ArF)
SU8厚胶显影
显***清洗
PostCMP清洗
光罩去胶清洗
光刻胶去除
金属Lift-off处理
刻蚀微刻蚀处理
企业类型 | 有限责任公司(自然人投资或控股) | 统一社会信用代码 | 91420106669542290R |
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成立日期 | 2008-02-21 | 法定代表人/负责人 | 黄婉茹 |
注册资本 | 139万(元) | 注册地址 | 洪山区珞狮南路147号未来城A栋23层2301室 |
营业期限 | 2008-02-21 至 无固定期限 | 登记机关 | 武汉市洪山区市场监督管理局 |
经营范围 | 一般项目:货物进出口(不含国家禁止或限制进出口的货物);通讯电子产品、机械自动化产品、半导体产品、计算机信息技术产品研发、销售及技术服务(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动) |