【标定光刻掩膜版普通金属掩模版铬板个性定制误差小精度高】价格

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主营产品：激光刻字机

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更新时间 : 2024-04-11

产品特性加工精度高	加工类型定制加工
工件材质不锈钢、铝、铜、钼、镍等	加工产品范围蒸镀掩膜版、科研实验掩膜版、金属MASK、金属遮罩、叉指电极掩膜版
打样周期1-3天	加工周期4-7天
年最大加工能力999999件	年剩余加工能力888888件
产品材质蒸镀掩膜版、科研实验掩膜版、金属MASK、金属遮罩、叉指电极掩膜版	适用范围镀膜、光刻、科研等
加工厚度0.1-2.5mm	加工幅面350*300mm
加工地址北京、天津	服务范围全国
设备类型皮秒、纳秒	型号CN221124442

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标定光刻掩膜版普通金属掩模版铬板个性定制误差小精度高

华诺激光专业定做掩膜版 mask 金属掩模板不锈钢掩膜版，主要适合于高校、科研所、高科技公司的实验室使用，也适合于工厂批量生产，掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等真空镀膜设备中，用来制备OTFT、OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。由于都是定制的产品，具体价格需要发图纸确认后，才能正式报价。

光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

不锈钢掩模板是以不锈钢材料为基板生产的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金属硬度高可以反复使用，适用于蒸镀线路、电极、芯片层等。受高校研发部门、科研所喜爱。

芯片掩模板用于芯片线路蒸镀使用，优质的材料再结合本公司多年生产经验，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模图像的转移，适合芯片生产厂家和高校实验室。

掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形，用光刻机在原材料上光刻出相应的图形，将不需要的金属层和胶层洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺，将微米级和纳米级的精细图案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作用主要体现为利用已设计好的图案，通过透光与非透光方式进行图像（电路图形）复制，从而实现批量生产。

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北京华诺恒宇光能科技有限公司技术开发；图文设计；销售机械设备、家用电器、电子产品。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）

企业类型	有限责任公司(自然人独资)	统一社会信用代码	91110106794094327G
成立日期	2006-09-14	法定代表人/负责人	张卫梅
注册资本	200万(元)	注册地址	北京市丰台区南三环西路88号花卉研究中心2102号
营业期限	2006-09-14 至无固定期限	登记机关	北京市工商行政管理局丰台分局
经营范围	技术开发；图文设计；销售机械设备、家用电器、电子产品。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）